三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

化学性质稳定，一般条件下在水与碱溶液中均不反应（三校合编无机化学第四版下册534页），只有当放电时在水中才发生NF3+2H2O==放电==HNO2+3HF。F的电负性大于H，因此NF3中的孤对电子云由于向F偏移而导致电子云密度比在NH3中低，配位能力下降，因此质子化时放热小于NH3。偶极矩与上面类似，大概就是由于电负性的增强导致偶极矩的降低。
禁配物：还原剂、易燃或可燃物。
急性毒性
LD50
LC50：19000mg/m3，1小时(大鼠吸入)；5600mg/m3，4小时(小鼠吸入)
用途编辑
三氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中**有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。